等离子增强化学气相淀积(PECVD：PlasmaEnhanceChemicalVapourDeposition),在硅片表面沉积一层氮化硅减反射膜，以增加入射在硅片上的光的透射，减少反射，氢原子搀杂在氮化硅中附加了氢的钝化作用。（来源：微信公众号“摩尔光伏”ID：molepv）[$NewPage$][$NewPage$][$NewPage$][$NewPage$][$NewPage$]

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一文全面了解PECVD

2020-09-01 08:26 来源: 摩尔光伏 

等离子增强化学气相淀积(PECVD：Plasma Enhance Chemical Vapour Deposition),在硅片表面沉积一层氮化硅减反射膜，以增加入射在硅片上的光的透射，减少反射，氢原子搀杂在氮化硅中附加了氢的钝化作用。

（来源：微信公众号“摩尔光伏”ID：molepv）



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