等离子增强化学气相淀积(PECVD：PlasmaEnhanceChemicalVapourDeposition),在硅片表面沉积一层氮化硅减反射膜，以增加入射在硅片上的光的透射，减少反射，氢原子搀杂在氮化硅中附加了氢的钝化作用。[$NewPage$]

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透析PECVD

2020-04-17 08:26 来源:摩尔光伏 

等离子增强化学气相淀积(PECVD：Plasma Enhance Chemical Vapour Deposition),在硅片表面沉积一层氮化硅减反射膜，以增加入射在硅片上的光的透射，减少反射，氢原子搀杂在氮化硅中附加了氢的钝化作用。


PECVD硅片光伏技术
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